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GSL-1100X-PJF-A等離子表面處理儀是一款緊湊的大氣離子表面處理噴射系統，主要由射頻發生器、離子束頭組成。噴射的離子束流能在較低的溫度和沒有真空條件的環境下活化和清理材料（如單晶片、光學元件、塑料等）表面雜質，且清理速度迅速。本機是為獲得高質量的外延薄膜或光學涂層進行預先表面處理的合適的工具選擇。具有一個樣品臺，將樣品固定在樣品臺上后可進行X
PCE-3等離子清洗機使用空氣、氧氣、氬氣等離子去除納米級有機物污染，在射頻電源的作用下，Z大去除速率為10nm/min。在單晶材料外延薄膜生長以前對其進行預處理，將對生長具有顯著的作用。
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