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開啟式單溫區(qū)低真空CVD系統(tǒng)OTF-1200X-F3LV

簡要描述:開啟式單溫區(qū)低真空CVD系統(tǒng)OTF-1200X-F3LV是由開啟式單溫區(qū)管式爐、機械泵、三通道浮子混氣系統(tǒng)組成,可為CVD或擴散實驗提供1-3種的混合氣體,真空度可達10-2torr。

  • 產(chǎn)品型號:OTF-1200X-F3LV
  • 廠商性質:生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2016-04-12
  • 訪  問  量:2839

詳細介紹

 

產(chǎn)品型號

  開啟式單溫區(qū)低真空CVD系統(tǒng)OTF-1200X-F3LV

主要特點

  1層殼體,配有循環(huán)風冷系統(tǒng),殼體溫度<60℃。

  2內(nèi)爐膛表面涂有美國進口氧化鋁涂層,可以提高加熱效率,同時延長使用壽命

  3PID控制器 ,可以設置30段升降溫程序。

  4設有超溫及斷偶報警功能

  5已通CE認證。

技術參數(shù)

  1電源:AC 220V   50/60Hz  2.5KW

  2、石英管:外徑Φ80mm,內(nèi)徑Φ75mm,長1000mm

  3、加熱元件:摻鉬鐵鉻鋁合金電阻絲

  4、加熱區(qū)域:440mm

  5、恒溫區(qū)域:150mm

  6工作溫度:zui高1200連續(xù)工作1100

  7、zui大升降溫速率:20/min

  8、控溫精度:±1

  9、真空度:5.5×10-3torr(機械泵),10-4torr(分子泵)

  10、泄漏率:<5mtorr/min

  11、浮子流量計3個;10-100ml/min16-160ml/min25-250ml/min

  12、壓力表:4

產(chǎn)品規(guī)格

  尺寸:管式爐550mm×380mm×520mm,混氣系統(tǒng)600mm×600mm×597mm;重量:60kg

 

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