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高真空CVD系統OTF-1200X-80-C2HV

簡要描述:高真空CVD系統OTF-1200X-80-C2HV是由單溫區管式爐、兩路質子混氣系統和高真空機組組成,Z高工作溫度可達1200℃,混氣系統可以對兩種氣體進行精確的混氣,然后導入管式爐內部,本系統極限真空度可達10-5 torr。

  • 產品型號:OTF-1200X-80-C2HV
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2016-04-12
  • 訪  問  量:2877

詳細介紹

 

產品型號

  高真空CVD系統OTF-1200X-80-C2HV

主要特點

  1層殼體,配有風冷系統,殼體溫度<60℃。

  2內爐膛表面涂有美國進口氧化鋁涂層,可以提高反射率和保護爐膛潔凈度

  3PID控制器 ,可以設置30段升降溫程序。

  4質量流量系統采用316不銹鋼制作而成

  5已通過CE認證。

技術參數

  管式爐

  1電源:AC 220V   50/60Hz

  2、石英管:外徑Φ80mm,內徑Φ75mm,長1000mm

  3、加熱元件:摻鉬鐵鉻鋁合金電阻絲(表面涂有氧化鋯)

  4、加熱區域:440mm

  5、恒溫區域:150mm

  6工作溫度:zui高1200連續工作1100

  7、zui大升降溫速率:20/min

  8、控溫精度:±1

  9、熱電偶:K

  高真空機組

  1、殼體:600mm×600mm×700mm,zui大承重275kg

  2、真空泵:德國Pfeiffer真空泵

  3、顯示屏:LCD數字顯示

  4、抽氣速率:N2-33L/sHe-39L/sH2-32L/s

  5、工作范圍:1000mtorr-10-7mtorr

  6、極限:10-8mtorr(無泄漏)

  質量流量混氣系統

  1、電源:單相AC208-240V  50/60Hz

  2、功率:18W

  3尺寸:600mm×600mm×700mm

  4混氣箱:Φ80mm×120mm

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